![模拟电子系统设计指南(基础篇):从半导体、分立元件到TI集成电路的分析与实现](https://wfqqreader-1252317822.image.myqcloud.com/cover/808/47378808/b_47378808.jpg)
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2.5 结电流密度
在P区x=-xp的边缘处,从N区流到P区的电荷产生的电子电流密度表示为:
![](https://epubservercos.yuewen.com/A93590/26763633309316706/epubprivate/OEBPS/Images/39_6.jpg?sign=1739416806-dhVho0zBmEMDVTzG4IXHdBpQhlmO6PcM-0-7fd134308f07ed7f2c5d5eaa2c97682e)
式中,Dn为少子电子的扩散密度;Ln为少子电子的扩散长度,其与 Dn及少子寿命 τno的关系为:
![](https://epubservercos.yuewen.com/A93590/26763633309316706/epubprivate/OEBPS/Images/39_7.jpg?sign=1739416806-euYGTaQMf5q4FdnrzpoETDN45Qk2JWKZ-0-fb1a74c14b761c3e580b9ad237b802e9)
少子寿命定义为P区少子电子与P区多子空穴进行复合的平均时间。同理,在N区x=xn的边缘处,从P区流到N区的电荷产生的空穴电流密度表示为:
![](https://epubservercos.yuewen.com/A93590/26763633309316706/epubprivate/OEBPS/Images/39_8.jpg?sign=1739416806-HyOWlqJXEVZFiBkjSd2xBW3S5MBPYqiq-0-e7f96ffc8c6636cd24a5a5c7ba244809)
Dp为少子空穴的扩散密度;Lp为少子空穴的扩散长度,其与Dp以及少子寿命τpo的关系为:
![](https://epubservercos.yuewen.com/A93590/26763633309316706/epubprivate/OEBPS/Images/39_9.jpg?sign=1739416806-eSDwPQi3SgTZviEU744RQkZs43BpO4oc-0-ccc82f1a5f4b59c2b3a5889d484c9312)
因此,流过PN结的总电流密度为:
![](https://epubservercos.yuewen.com/A93590/26763633309316706/epubprivate/OEBPS/Images/39_10.jpg?sign=1739416806-h6sReNqkF2Oe1tm9OxK7AXbsprvMr4IJ-0-89d5b931aae6f1dc83ac2c3264d117c5)
将此式写成更通用的形式:
![](https://epubservercos.yuewen.com/A93590/26763633309316706/epubprivate/OEBPS/Images/40_1.jpg?sign=1739416806-xVU977tWlYiEkgIcsDGyKAJwFNy2e1TJ-0-aa864ec056cf0f6d6b12f276c418fce1)
式中,参数J s为反向饱和电流密度,取决于PN结的物理参数,表示为
![](https://epubservercos.yuewen.com/A93590/26763633309316706/epubprivate/OEBPS/Images/40_2.jpg?sign=1739416806-NpkQipcxvOJaCdXKdHcv7cTlxSdMZswj-0-5a7e4a6aa39dc1bd7284c0d454348278)
式 (2.31) 即适用于正值 (正向偏置条件),也适用于负值 (反向偏置条件)。因此,二极管的电流等于电流密度JS与PN结横截面积Apn的乘积,表示为:
![](https://epubservercos.yuewen.com/A93590/26763633309316706/epubprivate/OEBPS/Images/40_3.jpg?sign=1739416806-wSysuNbn2v8r78Nq7idH1NHk55xyTObr-0-5911833744b7f9b04b5abca7c6e67dfa)
式中,IS为反向饱和电流;vD为施加的电压;η为常数,其范围1~2,与实际二极管的制造工艺有关。式 (2.33) 描述了肖特基势垒结的特性。
注:vD >0 为正向偏置条件,vD <0 为反向偏置条件。